真空(kong)(kong)鍍膜(mo)工作原(yuan)理是膜(mo)體(ti)(ti)(ti)在高溫(wen)下(xia)蒸(zheng)發(fa)落(luo)在工件表面結(jie)(jie)晶。由于空(kong)(kong)氣對蒸(zheng)發(fa)的(de)膜(mo)體(ti)(ti)(ti)分(fen)子(zi)會產(chan)生(sheng)阻力(li)造成碰(peng)撞(zhuang)使結(jie)(jie)晶體(ti)(ti)(ti)變得(de)粗(cu)糙無(wu)光(guang)，所以必須在高真空(kong)(kong)下(xia)才能使結(jie)(jie)晶體(ti)(ti)(ti)細(xi)密(mi)光(guang)亮，果如真空(kong)(kong)度不高結(jie)(jie)晶體(ti)(ti)(ti)就會失去光(guang)澤結(jie)(jie)合力(li)也很(hen)差。早期真空(kong)(kong)鍍膜(mo)是依靠蒸(zheng)發(fa)體(ti)(ti)(ti)自然(ran)散射(she)(she)(she)，結(jie)(jie)合差工效低光(guang)澤差。現(xian)在加(jia)(jia)上中頻磁控濺射(she)(she)(she)靶(ba)用磁控射(she)(she)(she)靶(ba)將膜(mo)體(ti)(ti)(ti)的(de)蒸(zheng)發(fa)分(fen)子(zi)在電場的(de)作用下(xia)加(jia)(jia)速轟擊靶(ba)材，濺射(she)(she)(she)出大量的(de)靶(ba)材原(yuan)子(zi)，呈(cheng)中性的(de)靶(ba)原(yuan)子(zi)(或分(fen)子(zi))沉積在基(ji)片上成膜(mo)，解決了過去自然(ran)蒸(zheng)發(fa)無(wu)法加(jia)(jia)工的(de)膜(mo)體(ti)(ti)(ti)品(pin)種，如鍍鈦(tai)鍍鋯(gao)等(deng)等(deng)。

你中頻(pin)設備必(bi)須加冷卻水，原因是它(ta)的頻(pin)率高電(dian)流大。電(dian)流在導體流動時有(you)(you)一個集膚效應，電(dian)荷會(hui)聚集在電(dian)導有(you)(you)表面積，這樣使電(dian)導發熱所以采用中孔管做(zuo)導體中間加水冷卻。

(主要(yao)是圓柱(zhu)靶)為(wei)什么也要(yao)用水冷卻(que)?

磁控(kong)濺(jian)射(she)(she)靶(ba)在發射(she)(she)時(shi)會(hui)產(chan)生高溫(wen)會(hui)使射(she)(she)槍(qiang)(qiang)變形，所以(yi)它有一個(ge)(ge)水套來冷卻射(she)(she)槍(qiang)(qiang)。同時(shi)還(huan)有一個(ge)(ge)重要原因(yin)磁控(kong)濺(jian)射(she)(she)可以(yi)被(bei)認(ren)為是鍍膜技(ji)術中(zhong)*突出(chu)的成就之(zhi)一。它以(yi)濺(jian)射(she)(she)率(lv)高、基(ji)片溫(wen)升低(di)、膜-基(ji)結(jie)合力好。

從更深層次研(yan)究電子在非均(jun)勻電磁場(chang)(chang)中(zhong)的(de)運(yun)動規律,探討了磁控濺射的(de)更一般原理以及磁場(chang)(chang)的(de)橫向不均(jun)勻性及對稱性是(shi)磁約束的(de)本質原因。磁控濺射可以被認為(wei)是(shi)鍍(du)膜技術中(zhong)*突(tu)出的(de)成(cheng)就之一。它以濺射率高、基(ji)(ji)片溫(wen)升低、膜-基(ji)(ji)結合(he)力好(hao)、裝(zhuang)置性能穩(wen)定。

冷水(shui)(shui)機是(shi)一(yi)種(zhong)水(shui)(shui)冷卻(que)(que)設備(bei)，能(neng)提供恒溫(wen)(wen)、恒流、恒壓的(de)(de)冷卻(que)(que)水(shui)(shui)設備(bei)。其工作原理是(shi)先向機內(nei)水(shui)(shui)箱注入一(yi)定量的(de)(de)水(shui)(shui)，通過(guo)制冷系(xi)統(tong)將(jiang)水(shui)(shui)冷卻(que)(que)，再(zai)由水(shui)(shui)泵將(jiang)低溫(wen)(wen)冷卻(que)(que)水(shui)(shui)送(song)入需(xu)冷卻(que)(que)的(de)(de)設備(bei)，冷凍水(shui)(shui)將(jiang)熱量帶走后(hou)溫(wen)(wen)度升高再(zai)回(hui)流到水(shui)(shui)箱，達到冷卻(que)(que)的(de)(de)作用。冷卻(que)(que)水(shui)(shui)溫(wen)(wen)可(ke)根據要求自動(dong)調節，長期使用可(ke)節約用水(shui)(shui)。

冷水(shui)(shui)機(ji)能控制(zhi)真(zhen)(zhen)空鍍(du)膜機(ji)的(de)溫度(du)，以保證鍍(du)件的(de)高(gao)質量。如(ru)果不(bu)配(pei)冷水(shui)(shui)機(ji)就不(bu)能使真(zhen)(zhen)空鍍(du)膜機(ji)達到高(gao)精度(du)、高(gao)效率控制(zhi)溫度(du)的(de)目的(de)，因為自然水(shui)(shui)和水(shui)(shui)塔散熱都不(bu)可避免地受到自然氣溫的(de)影響，而且此方(fang)式控制(zhi)是(shi)極不(bu)穩定的(de)。

冷(leng)水機具有(you)完全(quan)獨(du)立(li)的(de)(de)制(zhi)冷(leng)系(xi)統，絕不(bu)會受氣(qi)溫(wen)(wen)及環(huan)境的(de)(de)影響，水溫(wen)(wen)在(zai)5℃～30℃范(fan)圍內調節控制(zhi)，因而可以達到高精(jing)度(du)、高效率控制(zhi)溫(wen)(wen)度(du)的(de)(de)目的(de)(de)，冷(leng)水機設(she)有(you)獨(du)立(li)的(de)(de)水循環(huan)系(xi)統。